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표면처리표면처리산업기사 · 2012년08월26일 · 36/60

36.다음 중 이온도금에서 증발물질의 이온수를 다량으로 만드는 방법으로 가장 적절한 것은?

1

PACVD(Plasma Assisted CVD)법

2

HCD(Hollow Cathode Discharge)법정답

3

ARE(Activated Reactive Evaporation)법

4

LPPD(Low Pressure Plasma Deposition)법

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