과목 구분 없음9급 지방직 공무원 공업화학 · 2024년06월22일 · 20/20
20.반도체의 제조공정에서 사용되는 감광제(photoresist)에 관한 설명으로 옳은 것은?(정답률:알수없음)
1
노광을 통해 분해되는 음성(negative) 감광제와 고분자화가 진행되는 양성(positive) 감광제로 구분된다.
2
사진공정(photolithography)은 '감광제 도포→현상→노광→식각'의 순서로 진행된다.
3
산화 실리콘 막과 도포된 감광제는 현상 공정을 통해 제거된다.
4
양성 감광제는 수성현상액을, 음성 감광제는 유기용매 현상액을 사용한다.정답