과목 구분 없음9급 지방직 공무원 기계일반 · 2020년06월13일 · 20/20
20.반도체 제조공정에서 기판 표면에 코팅된 양성 포토레지스트(Positive photoresist)에 마스크(Mask)를 이용하여 노광공정(Exposing)을 수행한 후, 자외선이 조사된 영역의 포토레지스트만 선택적으로 제거하는 공정은?
1
현상(Developing)정답
2
식각(Etching)
3
에싱(Ashing)
4
스트립핑(Stripping)
해설
※ 현상 (developing) : 반도체 제조공정에서 기판 표면에 코팅된 양성 포토레지스트에 마스크를 이용하여 노광공정을 수행한 후, 자외선이 조사된 영역의 포토레지스트만 선택적으로 제거하는 공정