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표면공학금속재료기사 · 2014년05월25일 · 89/100

89.Photoetching에 대한 설명으로 틀린 것은?

1

적외선을 이용한다.정답

2

ion beam을 이용한다.

3

metal mask를 이용한다.

4

electron beam을 이용한다.

해설

1. 적외선이 아니고 자외선이다. EUV

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