임의 구분열처리기능사 · 2015년04월04일 · 45/60
45.광휘열처리의 목적으로 옳은 것은?
1
잔류응력을 제거하기 위해서
2
산화 및 탈탄을 방지하기 위해서정답
3
시멘타이트 조직을 구상화시키기 위해서
4
잔류오스테나이트 조직을 제거하기 위해서
해설
광휘열처리의 주된 목적은 금속 표면의 산화 및 탈탄 방지이다. 표면 품질을 높이고 금속의 미적 가치를 유지하며, 후속 공정에서 부식을 줄이는 데 중요하다.
광휘열처리의 주된 목적은 금속 표면의 산화 및 탈탄 방지이다. 표면 품질을 높이고 금속의 미적 가치를 유지하며, 후속 공정에서 부식을 줄이는 데 중요하다.