33.“기체, 액체 혹은 고체 상태의 원료 화합물을 반응기내에 공급하여 기판 표면에서의 화학적 반응을 유도함으로써 반도체 기판 위에 고체 반응 생성물인 박막층을 형성하는 공정”으로 전자산업, 특히 반도체공정에 주로 이용하는 공정은? (단, 온실가스 에너지목표관리 운영 등에 관한 지침 기준)