온실가스 배출의 이해온실가스관리기사 · 2018년04월28일 · 38/100
38.온실가스ㆍ에너지 목표관리 운영 등에 관한 지침상 전자산업의 보고대상 배출시설 중 증착시설(CVD 등)에 대한 설명으로 옳지 않은 것은?
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일반적인 CVD 장치는 크게 원료수송부, 반응기, 부산물 배출구의 세부분으로 나눌 수있다.
2
산이나 알칼리 용액에 표면처리를 위하여 담구거나 원료 및 제품을 중화시키는 공정이다.정답
3
CVD법에 의한 화학반응의 종류로는 이종반응(heterogeneous reaction)이 대표적이다.
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기체, 액체 혹은 고체상태의 원료화합물을 반응기 내에 공급하여 기판 표면에서의 화학적 반응을 유도함으로써 반도체 기관 위에 고체 반응생성물인 박막층을 형성하는 공정이다.
해설
2. 식각공정에 대한 설명