기계재료 및 요소컴퓨터응용밀링기능사 · 2015년04월04일 · 1/60
1.반도체 재료의 정제에서 고순도의 실리콘(Si)을 얻을 수 있는 정제법은?
1
인상법
2
대역정제법
3
존 레벨링법
4
플로팅 존법정답
해설
플로팅 존법: LED, 메모리 및 CPU 등과 같은 반도체 소자를 제조하는 데 필요한 기판등 웨이퍼를 제작하는 공정으로 반도체 재료를 정제에서 고순도의 실리콘(Si)을 얻을 수 있는 정제법이다.
플로팅 존법: LED, 메모리 및 CPU 등과 같은 반도체 소자를 제조하는 데 필요한 기판등 웨이퍼를 제작하는 공정으로 반도체 재료를 정제에서 고순도의 실리콘(Si)을 얻을 수 있는 정제법이다.